Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
3D patterning of silicon by contact etching with anodically biased nanoporous gold electrodes
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BSO - Titre
3D patterning of silicon by contact etching with anodically biased nanoporous gold electrodes
XX
DOI
DOI
10.1016/j.elecom.2017.01.014
XX
DOAI
DOAI
10.1016/j.elecom.2017.01.014
XX
Identifiant WoS
WOS:000395615900019
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Accès ouvert
OA - Oui
XX
Source - Accès ouvert
OA - Non
XX
Type d'accès
Archive
XX
Editeur
Elsevier
XX
Source
ELECTROCHEMISTRY COMMUNICATIONS
XX
ISSN
1388-2481
XX
Type de document
Article
XX
Notoriété
4 - Excellente
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INC - Institut de chimie
INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
XX
uid:/PG8GD4TG
12/10/2021 14:52:37 (latest)
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